Рентгеновская пленка AGFA F8 NIF
Новинка
Дата выхода товара на
рынок:
В наличии
Сфера применения товара:
Электротехническая промышленность и приборостроение
Поставщик:
Если экспозиция, которую можно получить со свинцовыми экранами, чрезмерно велика, или первостепенное значение отводится радиационной безопасности, ведётся работа с применением флюорометаллических экранов. В данных условиях незаменима радиографическая плёнка AGFA F8 .
Главной особенностью этой высококачественной плёнки является сенсибилизированность (чувствительность к оптическому диапазону). Радиографическая пленка AGFA F8 NIF обладает чувствительностью ко всем экранам с голубым и ультрафиолетовым свечением. Флюорометаллические экраны (AGFA NDT RCF) – вольфрамат-калиевые экраны со слоем свинца или окиси свинца – наилучшим образом подходят для применения в промышленности. С использованием радиографических плёнок AGFA F8 с флуоресцентными экранами осуществляется контроль массивных конструкций, трубопроводов, бетона, в случаях, требующих ограничения рентгеновского излучения.
Зачастую данную плёнку используют и совместно с рентгеновскими микроскопами и импульсными рентгеновскими аппаратами. Если же на первое место выходит роль высокой скорости контроля, с применением высокочувствительных усиливающих экранов AGFA NDT 1200 время экспозиции уменьшается в 3-6 раз по сравнению с флюрометаллическими экранами. Радиографическая пленка AGFA F8 с флуоресцентными экранами позволяет достигать высокого уровня контраста изображения в сочетании с высоким разрешением. Если приоритетной становится высокая чёткость изображения, рекомендуется использовать D8 в сочетании со свинцовыми экранами. Радиографическая пленка AGFA F8 является высококонтрастной, высокоскоростной плёнкой с мелкозернистой структурой. Чаще всего применяется с флюрометаллическими (RCF) или флуоресцентными экранами. В определении области применения важнейшую роль играет чувствительность к излучению. Радиографическая пленка пленка AGFA F8 используется для контроля бетонных и прочих тяжёлых конструкций, а так же для микрофокусной технологии, за счёт низкого уровня излучения.